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當(dāng)前位置：首頁  >  產(chǎn)品中心  >  Rigaku理學(xué)  >  半導(dǎo)體測量設(shè)備  >  TFXRD-200玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku高精度測角儀

玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku高精度測角儀
簡要描述：

玉崎科學(xué)TFXRD-200半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku高精度測角儀
玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku高精度測角儀

射線衍射 (XRD) 系統(tǒng)可對最大 200 毫米晶圓進(jìn)行全面測繪

  • 產(chǎn)品型號：TFXRD-200
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間：2024-09-29
  • 訪  問  量：130

詳細(xì)介紹

玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku高精度測角儀

玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku高精度測角儀


TFXRD-200是一款用于測量大直徑晶圓上薄膜的專用XRD工具，可測量薄膜厚度、結(jié)晶度、化合物材料的成分比、外延片的晶格弛豫等。



TFXRD-200 概述

具有可選光學(xué)器件的高精度測角儀

該 XRD 系統(tǒng)適用于所有薄膜 XRD 應(yīng)用，并具有 XY 可移動平臺，可繪制最大 200 mm 的晶圓。

我們的系統(tǒng)可確保您的樣品保持完好無損，使您能夠毫無問題地進(jìn)行額外的實(shí)驗(yàn)和分析。為您的所有研究和開發(fā)需求提供最準(zhǔn)確、可靠的結(jié)果。

適用于近晶圓廠應(yīng)用的 XRD 系統(tǒng)映射工具

它可用于改進(jìn)材料分析、加強(qiáng)質(zhì)量控制和優(yōu)化制造工藝。

薄膜

  • 精確的厚度和成分

  • 水晶信息

  • 應(yīng)力應(yīng)變分析

  • 無損性能評價(jià)

  • 多層分析

  • 先進(jìn)材料開發(fā)

XRR 厚度專用系統(tǒng)

確定薄膜、涂層和多層結(jié)構(gòu)的厚度、密度和界面粗糙度。

GaAs(004)、立方GaN(002)、六方GaN(0004)特性評估

精確分析晶體取向并控制材料生長和加工，以實(shí)現(xiàn)電子和光電器件所需的性能。


TFXRD-200 規(guī)格

方法射線衍射 (XRD)、搖擺曲線 (XRC) 和反射法 (XRR)
目的高精度測角儀，帶全映射 XY 平臺，適用于 200 mm 晶圓
技術(shù)大支架高精度θ-2θ水平測角儀
主要部件全面晶圓計(jì)量技術(shù)
適用于最大 200 mm 晶圓的全映射 XY 平臺
選項(xiàng)PhotonMax 高強(qiáng)度 9 kW 旋轉(zhuǎn)對陰極 X 射線源
共焦最大通量 800 W 旋轉(zhuǎn)對陰極 X 射線源
HyPix-3000 高能量分辨率 2D HPAD 探測器
控制（電腦）外部 PC、MS Windows 操作系統(tǒng)、SmartLab Studio II 軟件
機(jī)身尺寸約 1900（寬）x 2200（高）x 1900（深）毫米
大量的約1600公斤
電源3?，200 V，50/60 Hz，30 A（封裝管）或 60 A（9 kW 旋轉(zhuǎn)陽極）


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