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  • 半導(dǎo)體設(shè)備XHEMIS TX-3000V理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀 半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀 內(nèi)置 VPD 的 TXRF 光譜儀 超快速金屬污染測(cè)繪 VPD 的最高靈敏度 兼容最大 300mm 晶圓

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    更新日期：2024-09-29

  • 半導(dǎo)體設(shè)備XHEMIS TX-3000理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀 半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀 TXRF光譜儀 超快速金屬污染測(cè)繪 兼容最大 300mm 晶圓

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  • 半導(dǎo)體設(shè)備TXRF 3760理學(xué)Rigaku反射熒光X射線分析儀 半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線分析儀 采用轉(zhuǎn)子式高輸出X射線發(fā)生器和新設(shè)計(jì)的入射X射線單色儀。 使用直接TXRF測(cè)量方法實(shí)現(xiàn)了10 8　原子/cm 2的過(guò)渡金屬LLD水平。 它可實(shí)現(xiàn)相同的精度和高通量，測(cè)量時(shí)間僅為封閉式 X 射線管的 1/3。

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