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日本ULVAC愛發(fā)科高密度等離子刻蝕設(shè)備
簡要描述：

日本ULVAC愛發(fā)科NE-550EX高密度等離子刻蝕設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科高密度等離子刻蝕設(shè)備

  • 產(chǎn)品型號：NE-550EX
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時間：2024-11-25
  • 訪  問  量：130

詳細(xì)介紹

日本ULVAC愛發(fā)科高密度等離子刻蝕設(shè)備

日本ULVAC愛發(fā)科高密度等離子刻蝕設(shè)備



高密度等離子刻蝕設(shè)備研發(fā)NE-550EX

研究開發(fā)的高密度等離子蝕刻系統(tǒng)NE-550EX是采用磁場ICP（ISM=感應(yīng)超級磁控管）方式的高密度等離子蝕刻系統(tǒng)，為單晶圓型，標(biāo)配LL室。 ，使其結(jié)構(gòu)緊湊且價格低廉。


特征

  • 與其他ICP方式相比，磁場輔助可在更低的壓力、更低的電子溫度和更高的密度下產(chǎn)生等離子體，并且可以進(jìn)行從離子蝕刻到自由基蝕刻的廣泛等離子體控制，因此作為開發(fā)工具適用于各種工藝。

  • 配備“星形電極"，防止沉積物粘附在射頻輸入窗口上。該設(shè)備還具有加熱功能，其設(shè)計注重再現(xiàn)性和穩(wěn)定性。

  • 我們實現(xiàn)了作為研發(fā)工具的可靠性，例如高可靠性的運(yùn)輸機(jī)器人、簡單的裝置結(jié)構(gòu)和易于維護(hù)。

  • 豐富的可選功能，可增設(shè)暗盒室。

  • NE-5700和NE-7800可兼容同一個腔體配置的多個腔體，適用于大規(guī)模生產(chǎn)線。

目的

  • 復(fù)合材料（LED、LD、高頻器件、功率器件）。

  • 電極、金屬布線、有機(jī)薄膜、陶瓷等加工

  • 用于加工難以蝕刻的材料，如鐵電體、貴金屬和磁性薄膜。

  • 納米壓印、NEMS、MEMS、各種傳感器。

  • 生物芯片、微流控器件、光子晶體等

規(guī)格

物品規(guī)格
系統(tǒng)配置研發(fā)/樣機(jī)設(shè)備+裝載鎖室
板尺寸～150毫米
工作壓力（Pa）0.07~6.7
面內(nèi)/面間均勻性最大±3%
基板溫度控制靜電吸盤


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