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日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
簡要描述：

日本ULVAC愛發(fā)科H83-50 H83-125 H84-125半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備

  • 產(chǎn)品型號：H83-50 H83-125 H84-125
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時間：2024-11-25
  • 訪  問  量：144

詳細介紹

日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備

日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備


臥式熱處理設(shè)備H系列

這是一款高度可靠的熱處理爐，擁有 30 多年的良好記錄。可用于200mm硅片的氧化、擴散、退火等熱處理。


特征

  • 這是一種臥式爐，用作氧化爐、擴散爐和退火爐。

  • 可以在一臺設(shè)備上選擇不同的進程。

  • 我們的目標(biāo)是通過使用 3 層或 4 層配置來節(jié)省空間。

  • 5 個區(qū)域加熱器均獨立控制，可實現(xiàn)溫度控制，具有出色的熱均勻性和穩(wěn)定性。

  • 配備內(nèi)部控制系統(tǒng)，操作簡單可靠。

  • H83-125和H84-125標(biāo)配船用升降機，可以輕松裝載到上層。

  • 可以進行諸如熱解氧化、濕式氧化、干式氧化、使用三氯氧化磷(POCl 3 )和三溴化硼(BBr 3 )的磷擴散、硼擴散和退火等工藝。

目的

  • 硅片的熱氧化、擴散和退火

規(guī)格

模型H83-50H83-125H84-125
過程氧化、擴散、退火
晶圓直徑～200mm（8英寸）
級數(shù)334
產(chǎn)品晶圓數(shù)量50125125
加熱區(qū)5
加熱器材質(zhì)鐵鉻鋁
常用溫度600～1200℃
浸泡長度370毫米800毫米800毫米
溫度均勻±1.0℃

















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